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주요사업

세정이란

코미코의 세정은 고객사 공정 중 발생된 장비 부품의 Particle, 이온 불순물 등 오염물을 제거하는 공정입니다. 또한 손상된 부품 표면을 각 공정조건에 맞도록 유지·관리하고, 모재의 손상을 최소화하며 공정 오염물을 제거하는 등 제품 수명 증가, Uniformity 개선, 미세오염을 제어할 수 있도록 다양한 솔루션을 제공하고 있습니다.

  1. PhaseⅠ세정 초기 단계

    국내 최초 반도체 부품 세정 기술 도입

    재질별, 공정별 정밀 세정

    물리적 세정 기술 개선 →
    CO2 Cleaning, Bead, Arc Coating

    0.3 ㎛ Size P/C 제어

  2. PhaseⅡ제품 표면처리 최적화

    다양한 물리적 세정 기술 향상 →
    고객사의 다양한 Needs에 적합한 표면 개선 대응

    다양한 기능의 제품 & 복합 소재의 제품 세정

    세정 공정의 정확성

    0.1㎛ Size P/C 제어

  3. PhaseⅢNano 세정 기술 도입

    표면 처리 최적화 → 공정 수율 개선

    제품의 표면적 증가를 통한 P/C Source 감소

    세정 공정의 정확성 → 품질 경영 시스템 도입

    0.04㎛ Size P/C 제어

  4. Phase ⅣNano 세정 기술의 발전

    SMART Factory – Automation

    제품별 Flexible Recipe 적용

    미세 공정 컨트롤 → 고객사 공정 Defect 감소

    친환경 세정기술 발달

    제품 수명 증가, Delivery Time 감소

    0.01um Size P/C 제어

주요 세정기술

코미코는 고객사의 다양한 공정 및 부품에 따라 적합한 세정기술을 제공하고 있습니다. 공정 오염물을 제거하는 것 뿐만 아니라 부품 표면을 최상의 상태로 제공하여 Particle을 제어하고, 제품의 수명을 증가시키는 최적의 솔루션을 제공하기 위해 끊임없는 연구개발을 진행하고 있습니다.

  CuStrip™ CleanPeel™ SurFinish™ SurfRestore™
사용 목적 Cu 공정 적용 부품의 모재 손상을
최소화하여 공정 오염물 제거
부품 손상 최소화를 통한
Parts Life Time 향상
Al CVD Showerhead 모재 및
Hole Damage 감소
Quartz 재질 제품의
Plasma Etching 표면 손상 복원
효과 모재 Etch Rate 감소
Part Life Time 연장
Part Life Time 연장 Particle Source 감소
Gas Flow Uniformity 유지
Particle 개선
Part Life Time 연장
적용 제품 Al Collimator,
Al Cover Ring 등
PVD 공정 Shield 류 CVD 공정 Showerhead Quartz Window,
Quartz pedestal 등
효과

세정 적용 이미지

  • Collimator

  • Inner Shield

  • Depo Ring

  • Shower Head

  • Shutter Disk